集成电子束蒸发镀膜机手套箱系统

  • 集成电子束蒸发镀膜机手套箱系统

    将电子束蒸发镀膜机(主真空室)与惰性气体保护手套箱进行高度集成,样品或基片经过手套箱进入镀膜机,完成镀膜后,再直接返回手套箱。整个过程中,样品始终不接触大气。完美应对钙钛矿、有机半导体、活性金属(锂、镁、铝)、硫化物等材料在电极制备时,一接触空气就氧化、水解或性能衰退的问题。它将高真空镀膜工艺与惰性气氛保护技术完美结合,解决了对空气敏感材料在制备、传输等流程中避免暴露的行业难题。


  • 应用领域

创新功能

专有技术

    专利模块   伊特克斯专利双O型密封圈法兰视窗特点及优势

    (专利号码CN104260114B):

            视窗法兰采用整体厚不锈钢板激光切割成整体强度高,耐冲击挤压变形的矩形环状。整体法兰视窗及环状密封槽,采用大型龙门加工中心一次加工成型,开双燕尾密封

    槽,密封支撑面及密封槽底面平面度<0.05毫米/米。

            法兰视窗与箱体采用冷却连续焊接方式,严格整体无损探伤检测焊缝,焊接处无泄漏。

            采用整体双环状“O”型密封圈嵌入整体环状槽的双槽真空隔离密封方式,里边密封圈无接缝,外边密封圈无接缝,双层密封间的真空有效地阻挡了空气中的H2O、O2、N2分子扩散入手套箱和有毒分子扩散出手套箱,达到无泄的效果,箱体泄漏率<0.0005vol%/h,达到无泄漏的效果。


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可选配置

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详细参数

镀膜系统
真空腔室内部尺寸:长400mm*高500mm
采用方形,优质304不锈钢前后开门真空室腔体1套,后门采用铰链式方门,方便清洗真空腔体
真空系统
描述主泵采用分子泵,前级泵采用直联双级旋片泵
真空极限≤5×10Pa,大气至6×10^Pa时间小于30分,充干燥氮气
腔体漏率整体漏率优于5×10-Pa.m³/S,保压12小时,压强小于10Pa
基片台
描述尺寸130mm*130mm方片,配一体式挡板,挡板要求能完全挡住和打开
旋转样品台需要设计旋转,转速:0-25转/分,且可以供客户自行调整,磁流体密封
升降
掩膜样品台掩膜结构根据客户要求定制设计
镀膜源
描述金属蒸发源水冷铜电极至少4组,兼容蒸发舟(钨、钼,钽舟)和螺旋丝,可蒸镀金属和氧化物等, 采用气缸挡板,翻盖开关
有机蒸发源采用铠装加热丝,安全洁净,最高加热温度:500℃,配4CC石英玻璃舟,采用气缸挡板,翻盖开关
金属蒸发
电源
直流电源2台,可切换,数字显示,蒸发电源可以通过软件控制,也可以手动控制,此外,蒸发电源还可以通过膜厚仪PID(闭环控制),自动调节蒸发速率
有机蒸发
电源
采用直流电源1台,通过导电温控表进行PID精确温度控制,温控精度±1℃,温控表显示 精度0.1℃
膜厚控制系统
描述膜厚仪:采用石英晶振膜厚监控仪1台,模式:顺序镀膜,探头:两通道;显示以及控制精度:0.01A/秒,频率分辨率0.01Hz,带有PID环功能,可通过膜厚仪自动控制蒸镀速率;膜厚偏差± 5%;
膜厚探头:进口水冷膜厚探头2套,6MHz,采用快速卡扣式结构更换晶振片,避免用螺纹压紧式结构损坏晶振片,采用胶圈锁紧密封结构。
蒸镀操控系统
描述PLC+触摸屏手自一体操控系统,可远程操控
手套箱
描述设备与手套箱集成厂商需要将镀膜设备与手套箱在硬件和软件上对接,保证真空镀膜设备和手套箱各自的密封,且能形成一套完整的系统
PLC控制及触摸屏操作系统,集成的电磁阀模
在标准状况下,即20℃恒温,99.99%的惰性气源,水、氧指标小于1 ppm
泄漏率电磁阀门均采用集成阀座,减少泄露。箱体泄露率小于0.001vol%/h
箱体1个304不锈钢的箱体,耐酸,厚度3mm,箱体尺寸:1500×750×900mm
大过渡舱不锈钢制成的大真空过渡室,内径360mm,长度620mm,右侧,自动控制
小过渡舱不锈钢制成的小真空过渡室,内径150mm,长度310mm,右侧,手动控制
前窗1个带3个手套口的前窗,可拆卸的安全玻璃视窗,倾斜设计的操作面,钢化玻璃厚度8mm,视窗与箱体之间的密封使用双层实心真空密封技术,达到无泄漏
水分析仪采用Avcray技术,测量范围可设:0-1000ppm
氧分析仪采用Avcray技术,配备一台氧分析仪,测量范围可设:0-1000ppm
其他说明
产品认证ISO9001认证、CE认证、UL认证
质保期一年质保期,终身维修
应用注意事项详情参阅说明书危险、警告、注意等条款


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