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多功能磁控镀膜系统包含大多数的真空薄膜镀层技术:热蒸发,电子束蒸腾,溅射沉积。腔体的开放式设计,使得样品大小从几毫米到250毫米均可镀层。样品夹具能够轻松固定多个样品并同时镀膜。此系统真空腔内连接一个300mm宽的快速通道门,能够十分便利和快速地切换样品和靶源。这对于薄膜制备研究机构,面对多种材料增加或改变沉积方式,转换起来十分便利,并没有任何空间限制。在所有的小型高真空镀膜设备中,此设备功能强大,性能价格比十分好。镀膜方式包含了热蒸发,电子束蒸发和磁控溅射沉积。由于它的模块化设计,使得多数研发人员用起来十分方便,针对各种样品易于转换沉积条件,是研究人员不可获缺的镀膜工具!主要用途:用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、超导膜、传感膜以及各种特殊需求的功能薄膜。

  • Sep 16, 2019
  • Category: 镀膜机
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